Avaliação da taxa de deposição de prata pelo processo de ion plating
Pela extensa utilização de componentes biomédicos destinados a próteses, surge à necessidade de combater infecções provenientes do processo cirúrgico. Um dos artifícios é a utilização de materiais compatíveis com o corpo humano que apresentam íons de prata implantados que auxiliam na assepsia de efeito oligodinâmico para prevenção de infecções. Dessa forma, a engenharia de superfícies adiciona uma propriedade as que já existiam anteriormente. Nos biomateriais, existem contaminantes que podem cobrir toda a superfície do substrato. Tais contaminantes são definidos como qualquer material no ambiente que interfira nas propriedades específicas do íon implantado, como é o caso de reações de oxidação. O contato com o oxigênio acaba prejudicando sua finalidade bactericida. O presente trabalho propõe depositar uma camada superficial de prata em substrato de silício por PVD através do equipamento de ion plating. Logo, espera-se que esta camada tenha adesão moderada e oxide primeiro, protegendo os átomos de prata implantados para continuar a atuar na prevenção de formação de biofilmes. O substrato utilizado foi wafer de silício monocristalino com orientação 100. A caracterização físico-química foi realizada pelas técnicas de RBS e GD-OES. Foi possível obter uma equação para taxa de deposição de prata para filmes extremamente finos, em escala nanométrica. Pela deposição através de um equipamento de ion plating, pode-se atingir boa reprodutibilidade indicando que o resultado obtido pode ser facilmente reproduzido em outros substratos.
Avaliação da taxa de deposição de prata pelo processo de ion plating
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DOI: 10.22533/at.ed.9972121109
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Palavras-chave: Deposição; Filme fino; Ion plating; Biomateriais.
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Keywords: Deposition; Thin film; Ion plating; Biomaterials.
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Abstract:
By extensive use of components for biomedical prostheses, arises the need to avert infections from the surgical process. One artifice is the usage of human body matching materials along with implanted silver ions that help the asepsis of oligodynamic effect for infections prevention, thus the surface engineering adds a new property to the existing ones. The biomaterials, there are contaminants that can cover the entire surface of the substrate. Such contaminants are defined as any material in the environment in which interfere with the specific properties of the implanted ion, as the oxidation reactions. The contact with oxygen harms their bactericidal purpose. The present paper suggests depositing a silver thin layer on the surface of silicon substrate by PVD process with an ion plating equipment. Therefore, it is expected a moderate layer adhesion and prior oxidation, protecting the implanted silver atoms to continue performing the prevention of biofilm formation. The substrate was a monocrystalline silicon wafer with orientation of 100. The physicochemical characterization was carried by RBS and GD-OES techniques. It was possible to obtain an equation to the rate of silver deposition for extremely thin films at nanoscale. Deposition through ion plating equipment may achieve good reproducibility, indicating that the result obtained can be easily reproduced on other substrates.
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Número de páginas: 17
- Níkolas Andrei Furlan Canabarro
- Tatiane Pacheco Soares Zamboni
- Cesar Aguzzoli
- Célia de Fraga Malfatti
- Felipe Ariel Furlan Canabarro
